TFFThin Films Finland
Syksy 2027 · Suomi
THIN
FILMS
FINLAND
Suomalainen hanke, pohjoismainen sielu — tervetulleita kaikki
Kokoamme Suomen ja Pohjoismaiden ohutkalvoyhteisön.
Kaksipäiväinen tieteellinen konferenssi ohutkalvojen kasvatuksesta ja karakterisoinnista syksyllä 2027.
TFFThin Films Finland
01 · AukkoNykytilanne
Pohjoismainen ohutkalvitiede on maailman kärkeä — mutta hajallaan.
Tutkijat viettävät vuotta tekniikkakohtaisissa tapaamisissa ulkomailla. Yhtään pohjoismaista konferenssia, joka kokoaa kaikki ohutkalvomenetelmät yhteen, ei ole — eikä yhtään Suomessa.
Pirstoutunut
Yksi tapaaminen per tekniikka, harvoin Pohjoismaissa
Kallis
Opiskelijat ja pienet ryhmät pääsevät mukaan vain harvoihin
Saarekkeina
ALD:n, PVD:n, CVD:n ja ohutkalvakarakterisoinnin ihmiset Pohjoismaissa tapaavat toisiaan harvoin
TFFThin Films Finland
02 · Miksi SuomiMiksi juuri täällä
Vahva pohjoismainen ohutkalviyhteisö.
Ei liian pieni, ei liian suuri — yhteisö, jonka koko on hallittava ja sopiva sille, että TFF toteutuu.
Ohutkalvotutkimuksen tuotos
Vuosodesta vuoteen tasaisesti kasvava työ
SuomiPohjoismaat
Joka vuosi Suomesta julkaistaan kymmeniä ohutkalviaiheisia tieteellisiä artikkeleita.
Pohjoismaissa yhteensä vielä enemmän.
Puhujien ja osallistujien määrä — tämän tapahtuman yleisö on juuri oikean kokoinen, ei liian suuri.
Pohjoismainen ohutkalviyhteisö kasvaa vuodesta toiseen.
TFFThin Films Finland
02 · Miksi SuomiKansallinen tutkimusyhteisö
Ohutkalviosaaminen kattaa koko Suomen.
Tutkimusyhteisö
Helsingin yliopisto
Helsinki
Aalto-yliopisto
Espoo
VTT
Espoo ja valtakunnallinen
Tampereen yliopisto
Tampere
Jyväskylän yliopisto
Jyväskylä
Turun yliopisto & Åbo Akademi
Turku
LUT-yliopisto
Lappeenranta
Oulun yliopisto
Oulu
Itä-Suomen yliopisto
Joensuu ja Kuopio
Teollisuus
Beneq
Espoo
Applied Materials (ex-Picosun)
Espoo
ASM Microchemistry
Espoo
Optorun
Suomi
Chipmetrics
Joensuu
Canatu
Espoo
Okmetic
Vantaa
Murata
Salo
Ja monia muita ryhmiä muissa Pohjoismaissa.
TFFThin Films Finland
03 · TapahtumaTapahtuma
Kaksipäiväinen, voittoa tavoittelematon tieteellinen konferenssi.
Ensimmäinen tapahtuma järjestetään Suomessa syksyllä 2027. Sessiot kattavat keskeiset ohutkalvojen kasvatusmenetelmät sekä karakterisointimenetelmät.
2 päivääAvauskeynote joka aamu, kolme sessioblokkia päivässä
3–4 saliaRinnakkaiset sessiosalit ja plenaaripuheenvuorot
24 sessiona≈ 96 esitelmää 14 tekniikkaperheessä
PosteritPostersessio hajasijoitettuna tilaan, keskustelua kutsuen
TFFThin Films Finland
04 · Tieteellinen sisältöTieteellinen sisältö
Jokainen tekniikka, yksi konferenssi.
ALD & PEALD
Lämpö- ja plasma-ALD
Aluevalikoiva
Aluevalikoiva kasvatus
ALE
Atomikerrosetsaus
CVD
Lämpöinen kemiallinen kaasufaasikasvatus
PECVD
Plasmavahvistettu CVD
MOCVD
Metallo-organinen CVD / MOVPE
MBE
Molekyylisuihkuepitaksia
PLD
Pulssilaserkasvatus
PVD
Katodisuihdutus, HiPIMS, kaari
Höyrystys
E-suihku- ja terminen höyrystys
Märkäprosessit
Spin-coating, sol-gel, ruiskutus, sähkösaostus
2D ja uudet
Grafeeni, TMD:t, perovskiitit
Karakterisointi
Ellipsometria, XRR, XPS, AFM, in-situ
Mallinnus
Simulointi ja prosessimallinnus
Teollisuus
Sovellukset ja uudet teknologiat
TFFThin Films Finland
05 · Luonnos ohjelmastaOhjelmarunko · 2 päivää · 3–4 salia
Päivä 1
Sali ASali BSali CSali D09:00
Avauskeynote · plenaarissa
09:45Kahvi
10:15ALD I · Lämpö-ALD
CVD I
PVD I · Katodisuihdutus
Karakterisointi I
11:45Lounas
13:00ALD II · PEALD
CVD II
PVD II · Katodisuihdutus & HiPIMS
Teollisuusesitykset I
14:30Kahvi
15:00Aluevalikoiva kasvatus
PECVD
E-suihku- ja terminen höyrystys
Märkäprosessit I
16:30Posterit
Päivä 2
Sali ASali BSali CSali D09:00
Keynote · plenaarissa
09:45Kahvi
10:15ALE · Atomikerrosetsaus
MOCVD / MOVPE I
MBE
Karakterisointi II
11:45Lounas
13:002D- ja uudet materiaalit
MOCVD / MOVPE II
PLD
Teollisuusesitykset II
14:30Kahvi
15:00Mallinnus ja simulointi
Karakterisointi III
Teollisuusesitykset III
Märkäprosessit II
16:30Opiskelijapalkinnot ja päätös
24 sessiona, 90 min · kukin ≈ 1 kutsuttu esitelmä (30 min) + 3 kontribuoitua esitelmää (20 min) · ≈ 96 esitelmää + 2 keynotea + posterit
TFFThin Films Finland
06 · OpiskelijatSijoitus seuraavaan sukupolveen
Osallistuminen on maksutonta.
Osallistuminen on maksutonta kaikille. Ohjelmassa on täysi postersessio sekä palkinnot parhaalle opiskelijoiden suulliselle esitykselle ja postereille — rahoituksen tulevat näyttelyilijät ja kumppanit.
01Paras opiskelijoiden suullinen esitelmä
02Paras opiskelijaposteri
03Paras posteri kussakin tekniikkaperheessä
TFFThin Films Finland
07 · MuotoYksi kerros, yksi yhteisö
Sessiot, posterit ja kahvi samassa tilassa.
Kolme tai neljä sessiosalia ja plenaari, posterit ja pöytäesittelyt hajasijoitettuina samaan tilaan, jotta osallistujat tapaavat toisiaan sessioiden välissä.
PLENAARI ~300 · SALIT ~80–120
Tilakonsepti
Sali A
Sali B
Plenaari
Posterit · Pöytäesittelyt · Kahvitauko
hajasijoitettu keskustelun herättämiseksi
Sali C
Sali D
TFFThin Films Finland
08 · OsallistuKaikille avoin
Tutkijat, opiskelijat ja yritykset samassa tilassa.
Näin voit osallistua
- — Tutkijat: lähetä esitelmä tai posteri
- — Opiskelijat: kilpaile opiskelijapalkinnoista
- — Yritykset: varaa pöytäesittely tai ryhdy kumppaniksi
- — Kaikki: osallistuminen on maksutonta
Thin Films Finland (TFF)
- — Itsenäinen järjestäjä, joka omistaa tapahtuman brändin
- — Hoitaa logistiikan, verkkosivut, abstraktien lähetyksen ja ilmoittautumisen
- — Varmistaa muutaman pöytäesittelijän ja kumppanin sekä huolehtii heidän taloudestaan
- — Kaikki tulot kulujen jälkeen lahjoitetaan isännöivälle yliopistolle
TFF on itsenäinen, voittoa tavoittelematon tapahtuma Pohjoismaiden ja Baltian ohutkalvoyhteisölle.
TFFThin Films Finland
09 · TalousItserahoittuva tapahtuma
Maksuton kaikille osallistujille.
Osallistuminen on maksutonta kaikille. Muutamat pöytäesittelijät ja kumppanit — laite- ja kulutustarvikkeiden valmistajat — rahoittavat tapahtuman ja laajentavat sen yleisöä.
Osallistujat
OpiskelijatMaksuton
Akateemiset osallistujatMaksuton
TFF on voittoa tavoittelematon tapahtuma. Kaikki tulot, tapahtumakulujen jälkeen, lahjoitetaan isännöivälle yliopistolle, joka päättää niiden käytöstä.
TFFThin Films Finland
10 · AikajanaMatka syksyyn 2027
Nyt avauspäivään asti.
Q4 2026
Ajankohta ja tapahtumapaikka
Q1 2027
Tieteellinen komitea; verkkosivut ja abstraktikutsu
Q2 2027
Keynote-puhujat; ilmoittautuminen ja yritysten tuki
Kesä 2027
Abstraktien arviointi ja ohjelman vahvistus
Syksy 2027
Thin Films Finland — ensimmäinen tapahtuma
TFFThin Films Finland
11 · YhteystiedotPysy mukana
Nähdään
syksyllä 2027.
Vaihe 01
Seuraa abstraktikutsua
Vaihe 02
Suunnittele esitelmä tai posteri
Vaihe 03
Ota yhteyttä pöytäesittelyistä ja kumppanuuksista
Israel Ayala · israel@ayala.fi · +358 50 405 5668
TFFThin Films Finland
Luonnos · entä josPäivä 1 · kuvitteellinen ohjelma Luonnos
37 esitystäLuonnos: miltä TFF olisi voinut näyttää todellisilla pohjoismaisten ja baltialaisten tutkijoiden vuosien 2025–2026 julkaisuilla. Ketään listatuista ei ole kutsuttu eikä kukaan ole lupautunut puhumaan.
09:00 PÄÄPUHUJA · W. M. M. (Erwin) Kessels (NL) — Atomic Layer Deposition
ALD I · Terminen ALD10:15
10:15 Princess Stephanie Llanos FI · kutsuttu
Impact of powder and electrode ALD coatings on the performance of intercalation cathodes for lithium–ion batteries
10:45 Georgi Popov FI
Recent trends in thermal atomic layer deposition chemistry
11:05 Sara Pakseresht FI
Atomic layer deposition for protecting lithium metal anodes to high-voltage battery applications
CVD I10:15
10:15 Anastasios Karakassides FI · kutsuttu
The impact of ferrocenium as a catalyst on the chiral distribution of single-walled carbon nanotubes in floating-catalyst chemical vapor deposition synthesis
10:45 Zhenyu Xu FI
Controllable growth transition from single-walled to double-walled carbon nanotubes using sulfur in an aerosol CVD reactor
11:05 Abu Taher Khan FI
High-performance field-effect transistors with semiconducting-rich single-walled carbon nanotube bundle
PVD I · Sputterointi10:15
10:15 Yan Lin FI · kutsuttu
Establishing Ohmic contact with ultra-thin semiconductor layer through magnetron sputtering for dendrite-free Zn metal batteries
10:45 Jarkko Etula FI
Hierarchical magnetic self-assembly of few-nanometer rutile TiO 2 particles via magnetron sputtering
11:05 Milad Ghaemi FI
Crystallization dynamics and interfacial structure during growth of thin Nb films on Cu by high-power impulse magnetron sputtering: A molecular dynamics study
Karakterisointi I10:15
10:15 Aleksi Kamppinen FI · kutsuttu
Spectroscopic Ellipsometry Characterization and Radiative Limit Modeling of Bismuth‐Based Perovskite‐Inspired Absorbers for Indoor Photovoltaics
10:45 Masoud Rastgou FI
Comparison of thin-film thickness measurements using ellipsometry and reflectometry with uniform samples
11:05 M. Fiaz Khan FI
Effect of Fe ion beam irradiation on structural, surface, optical, and electrical properties of ZnO thin films prepared by radio frequency sputtering
11:25 Anish Philip FI
Conformality of atomic/molecular layer deposited lithium terephthalate thin films
ALD II · PEALD13:00
13:00 Amit Tewari FI · kutsuttu
Direct PEALD Deposition of a HfO2 Gate Dielectric without the Passivation for TFTs on Rigid and Flexible Substrates
13:30 Priyanka Goel FI
Thermoelectric and electronic transport properties of thermal and plasma-enhanced ALD grown titanium nitride thin films
13:50 Amit Tewari FI
Influence of In Situ Atomic Layer Annealing and Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition Techniques for Low-Temperature Deposition of HfO2 High-κ Gate Dielectrics
14:10 Jaakko Julin FI
Oxidant-Free Atomic Layer Deposition of SnO2 Using Complementary Metal Precursors
CVD II13:00
13:00 Sergei Malykhin FI · kutsuttu
Effect of electron-beam irradiation on the luminescent properties of nitrogen-related defects in the needle shaped diamond
13:30 Alexander V. Generalov SE
One-step synthesis of graphene containing topological defects
13:50 Katharina Hauer NO
Study of effects of fractal apertures on diamond growth
PVD II · Sputterointi ja HiPIMS13:00
13:00 Joel Fischer SE · kutsuttu
An ionisation region model of reactive high-power impulse magnetron sputtering of Ti in an Ar/N 2 atmosphere
13:30 Rui Shu SE
nc-MeB2/a-MPEA structured (HfMoNbZr)xTi1-xBy films for enhanced hardness, toughness and tribological performance
13:50 Smita Gangaprasad Rao SE
Corrosion resistance of coated aluminum bipolar plates for proton exchange membrane fuel cells
Teollisuusesitykset I13:00
13:00 Remuel Isaac M. Vitto FI · kutsuttu
Interfacial engineering of conformal titanium oxide nanofilms on porous carbon supercapacitor electrodes via atomic layer deposition
13:30 Basit Ali FI
CeOx enhanced electrochemical performance of LiNi0.80Mn0.1Co0.1O2 cathode active material for Li-ion batteries
13:50 Safdar Muhammad FI
MgF2-based conformal antireflection coatings on highly curved lenses by atomic layer deposition
14:10 Sundas Ismaeel FI
Area selective atomic layer deposition of ruthenium with pinacolborane as a small molecule inhibitor
Aluevalikoiva kasvatus15:00
15:00 Heta-Elisa Nieminen FI · kutsuttu
In Vacuo Studies on the Mechanism of Inherently Area-Selective Atomic Layer Deposition of Iridium
15:30 Sundas Ismaeel FI
Area selective atomic layer deposition of ruthenium with phenol as a small molecule inhibitor
15:50 Valtteri Lasonen FI
Self-aligned patterning by area-selective etching of polymers and area-selective atomic layer deposition: Decreasing polymer flow and activating noncatalytic surface
16:10 Olga Partanen FI
Area-selective atomic/molecular layer deposition via block copolymer approach: Zn-benzene dithiol deposition as a case study
PECVD15:00
15:00 Arsam Ali FI · kutsuttu
Enhanced Vertical Sidewall Quality for Functional AlN Films in 3D Piezo MEMS Applications
E-beam- ja lämpöhöyrystys15:00
15:00 Daniel Primetzhofer SE · kutsuttu
Effects of laser wavelength and pulse energy on the evaporation behavior of TiN coatings in atom probe tomography: A multi-instrument study
15:30 Lina Grinevičiūtė LT
Optical Coating Deposition on Submicron-Patterned Surfaces
15:50 Ilze Aulika LV
Comprehensive optical characterization of organic thin films for OLED applications via spectroscopic ellipsometry
Märkäprosessit I15:00
15:00 Yogendra Kumar Mishra DK · kutsuttu
Nanostructured boron-aluminum-silicon (BAlSi) thin films: Synthesis via sol-gel and evaluation of antimicrobial efficacy
15:30 Yogendra Kumar Mishra DK
Design and characterization of sol-gel derived boron oxide–aluminum oxide nanostructured coatings with antimicrobial functionality
TFFThin Films Finland
Luonnos · entä josPäivä 2 · kuvitteellinen ohjelma Luonnos
36 esitystäLuonnos: miltä TFF olisi voinut näyttää todellisilla pohjoismaisten ja baltialaisten tutkijoiden vuosien 2025–2026 julkaisuilla. Ketään listatuista ei ole kutsuttu eikä kukaan ole lupautunut puhumaan.
09:00 PÄÄPUHUJA · Nuno M. R. Peres (DK) — Roadmap for Photonics with 2D Materials
ALE · Atomikerrosetsaus10:15
10:15 Juha Ojala FI · kutsuttu
Atomic Layer Etching of Tantalum with NbCl5 and O2
10:45 Topias Jussila FI
In situ growth of ultrathin Y2O3 capping layers for Eu-organic thin films via atomic/molecular layer deposition
11:05 Juha Ojala FI
Atomic layer etching of molybdenum with O2 and NbCl5
11:25 Juha Ojala FI
Atomic Layer Etching of Titanium Nitride With O 3 and NbCl 5
MOCVD / MOVPE I10:15
10:15 Josef Stevanus Matondang FI · kutsuttu
Thermally Conductive Buried Aluminum Nitride for Next Generation Silicon‐on‐Insulator
10:45 Marek Patočka FI
A comparative study of non-destructive techniques for estimating dislocation densities in heteroepitaxial AlN layers
11:05 Minho Kim SE
Thin-channel AlGaN/GaN/AlN double heterostructure HEMTs on AlN substrates via hot-wall MOCVD
11:25 Ching‐Lien Hsiao SE
Improved performance of lateral β-Ga2O3 Schottky barrier diodes by nitrogen thermal annealing
MBE10:15
10:15 Liwei Jing FI · kutsuttu
Strain-induced two-dimensional topological crystalline insulator in bilayer SnTe
10:45 Bitao Dong SE
Advanced growth techniques and challenges in ferroelectric AlScN thin films for next-generation electronic devices
11:05 Longfei He NO
Tailoring MBE growth of c-Mn3Sn directly on MgO (111) from islands to film
11:25 Carlos Nuñez Lobato DK
A Growth Study of Conductive SrTiO 3 Thin Films on Silicon Platforms
Karakterisointi II10:15
10:15 Mykhailo Chundak FI · kutsuttu
In vacuo investigation of atomic layer deposition of HfO2 thin films on TiN: A low energy ion scattering and x-ray photoelectron spectroscopy study of interface evolution
10:45 Grzegorz Greczyński SE
Physics of sample charging during x-ray photoelectron spectroscopy: Insights from experiments with thin film insulators
11:05 Grzegorz Greczyński SE
Revealing the nature of surface charging during X-ray photoelectron spectroscopy analysis of thin film insulators with metal capping layers
2D- ja uudet materiaalit13:00
13:00 Arto Rantala FI · kutsuttu
Piezoresistive Platinum Diselenide Pressure Sensors with Reliable High Sensitivity and Their Integration into Complementary Metal-Oxide-Semiconductor Circuits
13:30 Touko Lehenkari FI
Memristors from vertically aligned transition metal dichalcogenide films: Computational screening study
13:50 Aleksei V. Emelianov FI
Area-Selective Atomic/Molecular Layer Deposition of Europium-Organic Thin Films on Graphene and Other 2D Materials for Photoluminescent Heterostructures
MOCVD / MOVPE II13:00
13:00 Per Gunnar Sandstrøm SE · kutsuttu
Growth of non-polar and semi-polar GaN on sapphire substrates by magnetron sputter epitaxy
13:30 Tomas Grinys LT
GaN metal-organic vapor phase epitaxy on Sc2O3/Si templates for group III-nitride monolithic integration to Si technology
13:50 Dominykas Augulis LT
Navigating growth regimes in graphene-assisted III-nitride epitaxy: insights, challenges, and pathways forward
PLD13:00
13:00 H. Huhtinen FI · kutsuttu
Commercial compact fusion triggered REBCO tape industry: Pulsed laser deposition technology opportunities and challenges
13:30 Moe Moe Aye FI
Influence of Rare-Earth Variations on the Superconducting Properties of YBCO Films With and Without Artificial Pinning Centers
13:50 Shuang Li FI
Pulsed Laser Deposition of Nanoporous Silicon Electrodes for Solid‐State Lithium‐Ion Cells
14:10 P. Paturi FI
Preferentially oriented SrTiO 3 thin films grown on lanthanide-assisted Si(001) via pulsed laser deposition
Teollisuusesitykset II13:00
13:00 Alexey Ganzhinov FI · kutsuttu
Atomic Layer Deposition of Metallic Molybdenum Dioxide Thin Films Enabling High‐ k Rutile Capacitors
13:30 Kaisla Sutinen FI
Non-disruptive HF pretreatment to enhance defect visibility in silicon wafer manufacturing via photoluminescence imaging
13:50 Arun Haridas Choolakkal SE
Conformal chemical vapor deposition of B 4 C thin films onto carbon nanotubes
Mallinnus ja simulointi15:00
15:00 Mario Mäkinen FI · kutsuttu
Modelling of growth reaction pathways of zincone ALD/MLD hybrid thin films: a DFT study of precursor screening and the diethyl zinc pulse
15:30 Eero Haimi FI
Atomic layer deposition of zinc oxide films on lateral high-aspect-ratio test structures using diethylzinc and water as precursors
15:50 Amr Ghazy FI
Atomic and Molecular Layer Deposition of Nd- and Eu-Based Oxide and Hybrid Thin Films: Computationally Guided Precursor Selection
Karakterisointi III15:00
15:00 Andrey Shavorskiy SE · kutsuttu
Quantifying Dynamic Changes of Oxygen Nonstoichiometry and Formation of Surface Phases of SrCoOx Electrocatalysts by Operando Characterizations
15:30 Divyansh Gautam SE
Deuterium retention in sputter-deposited W-B layers: in-situ implantation and ion beam analysis during annealing
15:50 Justus Just SE
In situ insights from non-equilibrium solution combustion synthesis: From semiconducting thin films to metallic nanostructures
Teollisuusesitykset III15:00
15:00 A. Melninkaitis LT · kutsuttu
Laser damage of UV hafnia-based multilayer dielectric coatings at 355 nm wavelength
Märkäprosessit II15:00
15:00 Parsa Amin FI · kutsuttu
Anodic electrodeposition of MIL-53(Al) thin films on aluminum: Synthesis, characterization, and potential for direct electric heating
TFFThin Films Finland
Luonnos · entä josLuonnos · Julkaisumäärät · 2025–2026 · Pohjoismaiset ja baltialaiset affiliaatiot
Kymmeniä per menetelmä, muutamia satoja yhteensä
MenetelmäAlueSuomi
ALD (kaikki)
~145~73
PEALD
~9~3
Aluevalikoiva kasvatus
~25~10
ALE
~17~6
CVD
~101~23
PECVD
~11~3
MOCVD / MOVPE
~20~2
MBE
~26~2
PLD
~52~12
Magnetronisputterointi
~167~14
HiPIMS
~20~3
E-beam- ja lämpöhöyrystys
~21~4
Märkäprosessit
~29~8
2D ja uudet
~14~5
Karakterisointi (ellipsometria, XRR)
~55~9
Mallinnus ja simulointi
~104~25
Yhteensä~816~202
Kategoriat menevät osin päällekkäin ja haku poimii myös aiheen ulkopuolisia julkaisuja, joten luvut ovat ylärajoja. Alue = FI, SE, NO, DK, IS, EE, LV, LT (Suomi mukaan lukien). Vain lehtiartikkelit; konferenssiabstrakteja ei laskettu.